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公司主要代理韓國INSTAR CO., LTD.（英仕達）的清洗劑，蝕刻液等產(chǎn)品，專(zhuān)業(yè)為半導體生產(chǎn)企業(yè)提供硅產(chǎn)品表面清洗，蝕刻等用途產(chǎn)品。近年來(lái)，隨著(zhù)半導體線(xiàn)路微細化的不斷發(fā)展，在石英，硅片清洗過(guò)程中對顆粒、金屬污染的去除要求越來(lái)越高，我公司所進(jìn)口的蝕刻液，清洗劑可以滿(mǎn)足半導體制造中對硅環(huán)，硅片，以及石英材料去除雜質(zhì)的工藝需求，是半導體材料硅產(chǎn)品清洗的解決方案提供商。
產(chǎn)品主要成分
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硫酸 |
H?SO? |
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二氧戊烷 |
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碳酸鉀 |
K?CO? |
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焦磷酸鉀 |
K?P?O? |
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氟化氫銨 |
NH4HF2 |
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二氧戊環(huán) |
C3H6O2 |
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硝酸鉀 |
KNO3 |
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過(guò)硫酸銨 |
(NH4)2S2O8 |
