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公司主要代理韓國INSTAR CO., LTD.(英仕達)的清洗劑,蝕刻液等產(chǎn)品,專(zhuān)業(yè)為半導體生產(chǎn)企業(yè)提供硅產(chǎn)品表面清洗,蝕刻等用途產(chǎn)品。近年來(lái),隨著(zhù)半導體線(xiàn)路微細化的不斷發(fā)展,在石英,硅片清洗過(guò)程中對顆粒、金屬污染的去除要求越來(lái)越高,我公司所進(jìn)口的蝕刻液,清洗劑可以滿(mǎn)足半導體制造中對硅環(huán),硅片,以及石英材料去除雜質(zhì)的工藝需求,是半導體材料硅產(chǎn)品清洗的解決方案提供商。
產(chǎn)品主要成分
硫酸 |
H?SO? |
二氧戊烷 |
|
碳酸鉀 |
K?CO? |
焦磷酸鉀 |
K?P?O? |
氟化氫銨 |
NH4HF2 |
二氧戊環(huán) |
C3H6O2 |
硝酸鉀 |
KNO3 |
過(guò)硫酸銨 |
(NH4)2S2O8 |